ỨNG DỤNG UV VÀ PLASMA TRONG XỬ LÝ KHÍ ĐỘC

Công nghệ xử lý khí độc tiên tiến không thể không nhắc đến công nghệ tia UV và công nghệ Plasma lạnh được nhiều doanh nghiệp, cơ sở kinh doanh ứng dụng nhất là trong lĩnh vực ngành phun sơn, chế biến thực phẩm, điều chế dược phẩm, in ấn và hóa chất. Nhóm ngành có nguy cơ tạo ra lượng khí thải độc hại lớn, mang lại nhiều tác động tiêu cực cho sức khỏe con người.

Trong quá trình sản xuất, không khí bị ô nhiễm bởi hợp chất hữu cơ dễ chuyển sang thể khí ở điều kiện thường, khí độc hại và phát sinh thêm mùi khó chịu. Để chung tay “ Vì một Việt Nam Xanh” các đơn vị kinh doanh sản xuất nên biết đến công nghệ xử lý khí thải phù hợp và hiệu quả. Qua bài viết dưới đây, cùng tìm hiểu về ứng dụng của hai công nghệ xử lý khí độc nào!

Ứng dụng công nghệ tia UV

Ứng dụng tia cực tím mang năng lượng lớn có tính chất hóa học phân hủy hoặc biến đổi phân tử hóa học, phá vỡ được ADN và ARN của vi khuẩn và virus. Công nghệ UV sử dụng tính chất mạnh mẽ của tia cực tím để xử lý khí độc. Hai bước sóng đặc biệt được ứng dụng phổ biến trong lĩnh vực là 185 nm và 254 nm.

Đối với tia UV bước sóng 185 nm, lấy oxy có trong không khí mà hình thành nên Ozone có ký hiệu phân tử O₃. Tính chất hóa học đặc trưng của Ozone là oxy hóa mạnh mẽ, phân tử hầu hết các hợp chất hữu cơ dễ bay hơi nhóm chất tạo ra nhóm khí VOCs. Còn bức xạ có bước sóng 254 nm có thể phân giải các hợp chất hữu cơ, chất hóa học phức tạp thành các phân tư đơn giản như nước và CO₂ nhờ cơ chế hoạt động trực tiếp phá vỡ hết các liên kết đơn, đôi của phân tử.

Hợp chất hữu cơ sau khi vị UV phân giải tạo thành nước, tia UV lại tiếp tục phản ứng với nước tạo ra các chất có gốc (-OH) có khả năng oxy hóa giúp củng cố hiệu quả xử lý khí độc. Nhóm VOCs có chuỗi phân tử ngắn thì tia UV đạt hiệu quả phân hủy cao như acetone, ethanol, methanol.

>>>Tìm hiểu thêm: Công nghệ xử lý bụi và kim loại nặng

Xử lý khí độc bằng tia UV không sản sinh thêm các sản phẩm phụ hay tạo ra nước thải thứ cấp. Xử lý bằng tia UV chỉ cần lắp đặt thêm đèn chiếu tia UV bước sóng đặc biệt vào hệ thống có sẵn rất nhỏ gọn, tiện lợi và sẽ vận hành. Có thể kết hợp xử lý khí độc cùng với than hoạt tính.

Đèn UV cường độ cao, cụ thể cần tổng thể công suất chiếu tia UV ≥ 1000–2000 mW/cm² tại khu vực chiếu đèn mới đủ để phân hủy VOC phức tạp như các chất toluen, xylene và benzen. Phải luôn đảm bảo cường độ đèn trong buồng xử lý duy trì ổn định, tiến hành thay thế khi hết tuổi thọ sử dụng. Lượng Ozone dư sau phản ứng cần được kiểm soát tránh dư thừa qua nhiều.

Ngành in ấn bao bì, ngành chế biến thực phẩm có thể ứng dụng tia UV xử lý khí toluen, ethyl acetate, mùi hữu cơ, khí aldehyde để đảm bảo tuân thủ quy chuẩn, bảo vệ cộng đồng xã hội. Tính ứng dụng cao nhưng vẫn nên kết hợp một số công nghệ cùng xử lý vấn đề khí độc, khí thải để triệt để xử lý hiệu quả.

Ứng dụng Công nghệ Plasma lạnh

Tia Plasma thuộc trạng thái vật chất thứ tư bởi không phả